单片机存储技术FlashE²PROM MaskROM EPROM的区别
FlashE²PROM MaskROM EPROM的区别
FlashE²PROM
- 擦除方式:电擦除,通过电信号擦除数据
- 编程方式:电编程,可在电路中进行
- 擦除粒度: 通常按块(sector)擦除
- 擦写次数: 10,000-100,000次
- 特点:
- 非易失性(断电不丢失数据)
- 可在线编程
- 无需从电路中取出即可更新程序
- 擦写速度快
- 应用: 现代单片机如STC89C52RC等,适合需要频繁更新程序的应用场景
MaskROM
- 擦除方式:不可擦除
- 编程方式:再制造过程中通过掩模(mask)一次性编程
- 擦写次数: 0次,不可重写
- 特点:
- 非易失性(断电不丢失数据)
- 一旦制造完成不可更改
- 成本低
- 可靠性高
- 应用:80C51等早期单片机适合大批量生产且程序固定不变的场景
EPROM
- 擦除方式:紫外线擦除(需要特殊的紫外线擦除器)
- 编程方式:需要专用编程器
- 擦写次数: 约1000次
- 特点:
- 非易失性(断电不丢失数据)
- 需要从电路中取出才能擦除
- 芯片上有石英窗口用于紫外线照射
- 擦除过程需要20-30分钟
- 应用:87C51等单片机,适合开发阶段和小批量生产
技术演进关系
MaskROM → EPROM → FlashE²PROM 代表了单片机存储技术的演进过程,每一代技术都提高了灵活性和便利性,使得程序更新越来越方便。在现代单片机中,FlashE²PROM已经成为主流选择。
单片机存储技术FlashE²PROM MaskROM EPROM的区别
https://github.com/px6707/myblog 作者
panxiao
发布日期
2025 - 08 - 15
许可证
Unlicensed
评论