FlashE²PROM MaskROM EPROM的区别

FlashE²PROM

  • 擦除方式:电擦除,通过电信号擦除数据
  • 编程方式:电编程,可在电路中进行
  • 擦除粒度: 通常按块(sector)擦除
  • 擦写次数: 10,000-100,000次
  • 特点:
    • 非易失性(断电不丢失数据)
    • 可在线编程
    • 无需从电路中取出即可更新程序
    • 擦写速度快
  • 应用: 现代单片机如STC89C52RC等,适合需要频繁更新程序的应用场景

MaskROM

  • 擦除方式:不可擦除
  • 编程方式:再制造过程中通过掩模(mask)一次性编程
  • 擦写次数: 0次,不可重写
  • 特点:
    • 非易失性(断电不丢失数据)
    • 一旦制造完成不可更改
    • 成本低
    • 可靠性高
  • 应用:80C51等早期单片机适合大批量生产且程序固定不变的场景

EPROM

  • 擦除方式:紫外线擦除(需要特殊的紫外线擦除器)
  • 编程方式:需要专用编程器
  • 擦写次数: 约1000次
  • 特点:
    • 非易失性(断电不丢失数据)
    • 需要从电路中取出才能擦除
    • 芯片上有石英窗口用于紫外线照射
    • 擦除过程需要20-30分钟
  • 应用:87C51等单片机,适合开发阶段和小批量生产
技术演进关系

MaskROM → EPROM → FlashE²PROM 代表了单片机存储技术的演进过程,每一代技术都提高了灵活性和便利性,使得程序更新越来越方便。在现代单片机中,FlashE²PROM已经成为主流选择。

单片机存储技术FlashE²PROM MaskROM EPROM的区别

https://github.com/px6707/myblog
作者

panxiao

发布日期

2025 - 08 - 15

许可证

Unlicensed

评论

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小小小同学

欲买桂花同载酒, 终不似,少年游。